- 2026년 글로벌 IP스타기업 육성을 위한 해외 특허, 상표, 디자인 출원 비용 지원 사업 공고
- 기존 선정 기업(’24년, ’25년)은 연차평가 통과 시 동일 내용으로 지속 지원
- 글로벌 IP스타기업 육성(IP기반해외진출지원) 사업 대상 기업
- 해외 특허, 상표, 디자인 출원 시 비용 일부 지원 (국내 출원 여부 무관, 단 마드리드 국제상표출원 제외)
- 법인 또는 개인사업자 명의 출원만 인정 (공동출원 시 기준 충족 필요)
- 대리인(변리사) 선임 필수, 무효/반려/취하/포기 건 지원 불가
- 해외 특허, 상표, 디자인 출원 비용 일부 지원 및 전문 컨설팅 제공
- 지원금액: 특허(PCT) 최대 228만원, 개별국 특허 최대 570만원, 상표 210만원, 디자인 240만원
- 자부담금: 현금 40%
- 온라인 신청: RIPC지원사업 신청시스템(www.ripc.org/pms)을 통해 신청
- 신청 기간: 2025년 1월 20일 ~ 2025년 11월 20일 (예산 소진 시 조기 마감 가능)
- 지원 신청 → 심의위원회 → 지원사업 선정·통보 → 협력기관 추천 및 선정 → 3자 협약 → 컨설팅 → IP 출원/OA대응/등록 → 비용 신청 및 지급 → 실적 및 사후관리
ㅇ 해외출원지원사업 활용계획서 ㅇ 국내출원서 및 명세서 *신청시 공고에 첨부된 「지원기준 및 유의사항」을 꼭 확인하시기 바랍니다.
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[첨부1]_출원-2026년 IP글로벌 스타기업 해외진출지원 해외출원비용 지원사업 공고.hwp
[첨부2]_출원-2026년IP글로벌 스타기업 해외진출지원 해외출원비용 지원사업 활용계획서(양식).hwp
[첨부3]_출원-2026년IP글로벌 스타기업 해외진출지원 해외출원비용 지원사업 서약서(양식).hwp
[첨부4]_공통-2026년 해외권리화 지원기준 및 유의사항.hwp
[첨부5]_공통-2026년 IP기반 해외진출지원 서류제출 안내.hwp
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